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Die Aufholjagd Chinas bei der Entwicklung fortschrittlicher Halbleiter könnte schneller vorangehen als bisher gedacht. Wie Reuters berichtet, arbeiten chinesische Staatsunternehmen daran, eigene EUV-Maschinen zu entwickeln. Dabei handelt es sich um Anlagen, die mit kurzwelligem ultraviolettem Licht die Schaltkreismuster auf Siliziumwafer projizieren. Derzeit hat das niederländische Unternehmen ASML in diesem Bereich ein De-facto-Monopol. Ein Prototyp einer solchen Anlage soll in diesem Jahr in einem Labor in Shenzen fertiggestellt worden sein und jetzt erprobt werden.

Laut Reuters wurde er von ehemaligen ASML-Angestellten entwickelt, die die Technologie ihres ehemaligen Arbeitgebers praktisch Stück für Stück reverse-engineered haben. Bislang waren Industrieexperten davon überzeugt, dass China noch Jahre brauchen würde, um aufgrund mangelnder Technologie bei der Halbleiterherstellung aufzuholen. Eine funktionierende EUV-Maschine könnte den Zeitraum, der nötig ist, um zumindest in kleinen Stückzahlen moderne GPU-Chips für die KI-Industrie zu produzieren, deutlich verkürzen. Das von der chinesischen Führung ausgegebene Ziel für eine solche Produktion ist das Jahr 2028.